Mesin Salutan Sputtering Magnetron Vakum

Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine

Mesin Salutan Sputtering Magnetron Vakum

Hantar pertanyaan

Berbual sekarang

pengenalan produk

Mesin Salutan Sputtering Magnetron Vakum

Spesifikasi

TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputtering coater menggunakan kesan sputtering yang dihasilkan oleh pengeboman zarah bahan sasaran dalam persekitaran vakum, yang menjadikan atom atau molekul bahan sasaran menembak keluar dari permukaan pepejal, dan proses membentuk filem nipis dimendapkan pada substrat. Kepunyaan penyediaan pemendapan wap fizikal (PVD) teknologi filem nipis. TOB-1100X-SPC-16M magnetron sputter coater boleh digunakan untuk penyediaan mengimbas sampel mikroskop elektron di makmal, dan saiz peralatan yang padat menjimatkan ruang dalam makmal; operasinya mudah dan sesuai digunakan oleh pemula.

ciri-ciri

Ia dilengkapi dengan meter vakum dan meter arus sputtering, yang boleh memantau status kerja dalam masa nyata.
Dengan melaraskan pengawal arus sputtering dan injap gas vakum mikro, ia mengawal tekanan ruang vakum, arus pengionan dan memilih gas pengionan yang diperlukan untuk mendapatkan kesan salutan terbaik.
Gelang pengedap getah di tepi perumah loceng direka khas untuk memastikan perumah loceng kaca tidak akan terkelupas dalam penggunaan jangka panjang.
Kelengkapan elektrod voltan tinggi yang dimeterai seramik lebih tahan lama daripada pengedap getah yang biasa digunakan.
Mengikut ciri-ciri pengionan gas dalam medan elektrik, ruang vakum sputtering berkapasiti besar dan kawasan yang sepadan dengan sasaran sputtering digunakan untuk menjadikan lapisan sputtered lebih seragam dan tulen.
Kepala sputter menggunakan teknologi penyejukan Peltier untuk mendapatkan salutan zarah halus berprestasi tinggi.
Kepala sputter yang disejukkan air dan meja pembawa sejukan air tersedia.

Nama Produk	Mesin Salutan Sputtering Magnetron Vakum
Model Produk	TOB-1100X-SPC-16M
Keadaan Pemasangan	Peralatan ini diperlukan untuk digunakan pada ketinggian 1000m atau kurang, pada suhu 25 darjah ±15 darjah dan kelembapan 55%Rh±10%Rh. 1. air: peralatan perlu dilengkapi dengan pilihan mesin air penyejuk beredar sendiri (mengisi air tulen atau air ternyahion) 2. elektrik: AC220V 50Hz, mesti mempunyai pembumian yang baik 3. gas: ruang peralatan untuk diisi dengan argon (ketulenan 99.99% atau lebih), perlu menyediakan silinder gas argon mereka sendiri (dengan injap pengurang tekanan) 4. Meja kerja: saiz 600mm × 600mm × 700mm, beban-bearing 50kg atau lebih. 5. Peranti pengudaraan: tidak diperlukan
Parameter Utama	1. Sasaran: Ø50mm
	2. Ruang vakum: Ø160mm×120mm
	3. darjah vakum: Kurang daripada atau sama dengan 4×10-2mbar
	4, arus maksimum: 50mA (100mA pilihan)
	5. Had masa boleh ditetapkan: 9999s
	6. Injap vakum mikro: Sambungkan hos Ø3mm
	7. had voltan: 1600V DC
	8. pam mekanikal: 2L/s
	9. Bahan sasaran: Keperluan saiz:φ50mm×(0.1-0.5)mm(tebal) Sesuai untuk sputtering Au, Ag, Cu dan logam lain (tersedia di syarikat kami)
	10. Saiz: 360mm×300mm×380mm Berat keseluruhan: 50Kg, Berat bersih: 15Kg